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产品概述
技术参数
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CP20AS 抛光设备
我们抛光系列产品是能够在实现从硅片表面抛光加工,具有实现高稳定性薄化加工的设备。
技术参数
加工对象材料
Si
最大加工尺寸(mm)
Φ 200
抛光定盘(套)
3
尺寸(W*D*H,mm)
3200×2800×2700
重量(Kg)
约10000
同时加工(片/盘)
2
加工方式
干进,湿出
TTV(μm)
<1
加工产能(P/H)
30
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